안녕하세요.
고려대학교 전기전자전파공학부의 나노소자연구실입니다.

고려대학교 공과대학 공동실험실에서 “제7회 나노형상화 교육”을 실시합니다.

교육은 E-beam lithography, Photo lithography, RIE(Reactive Ion Etching), XRD(X-Ray Diffraction), IR-camera, Optic profiler, SEM(Scanning Electron Microscope-유경험자에 한함)의 7가지 과목으로 구성되어 있습니다. 각 장비 담당 연구실의 조교(대학원생)들이 교육을 진행하며 나노형상화 교육 수강 후에는 장비 사용이 가능한 교육생들에 한해 유저 자격을 부여합니다. 교육 기간은 2010년 2월 4일부터 10일까지 (4,5,8,9,10일) 5일간입니다. 조교들의 실제 경험에서 우러나는 자세한 설명에 힘입어 장비에 대한 이해도를 높일 수 있는 접하기 어려운 좋은 기회가 될 것으로 생각됩니다.


신청 방법 : 이메일 접수 - 담당자 : 한만중 (hyperlights@korea.ac.kr)
신청 기간 : 2010년 1월 25일(월)~1월 29일(금)
신청 양식 : 반드시 첨부된 엑셀파일을 작성하셔서 담당자에게 이메일로 보내주세요.

메일제목: [나노형상화] 학교, 신청자 이름
메일내용은 따로 적으실 필요 없습니다. 첨부된 엑셀파일의 형식에 맞게 작성하셔서 보내주시면 됩니다.
(학부생의 경우는 교수님 추천이 필요합니다.)

교육비 : 과목당 2만원 (교재 포함-각 공정에 대한 user manual 및 이론 자료)

** 교육 인원은 교육 과목에 따라 조금씩 다를 수 있으며 선착순입니다. 인원 확정 후 각 개인에게 합격유무를 공정 교육 일정과 함께 이메일로 알려드립니다.

** 교육비는 현장납부이며 고려대학교 학생은 학내 공동실험실 연구비 처리 방식으로 하며 고려대학교 외 학생은 연구비 관련 사업자등록증 가져오시면 계산서를 발행해드립니다.

나노형상화 교육에서 실시되는 Photo/E-beam lithography 기술을 통한 micro 및 nano-scale 에서의 패턴 형성, RIE를 이용하여 구조를 형성하기 위한 etching 등은 저차원의 소자 구조를 만들기 위한 필수적인 반도체 공정 기술입니다. 또한 XRD, SEM, Optic profiler, IR camera 를 이용한 물질 및 구조 분석을 통해 나노재료 및 나노소자의 특성을 검증할 수 있습니다.
이번에 추가된 IR-camera 교육은 구조물의 열 패턴을 시각화하고 정량화하는 열분포 촬영/저장 기술입니다.
실질적이고 필수적인 나노 스케일에서의 재료 및 소자 제작, 분석/평가를 위한 공정 기술 교육의 기회를 놓치지 마세요.

많은 신청 바랍니다..
문의전화: 02-3290-3801
Homepage: http://elc.korea.ac.kr & http://nanodev.korea.ac.kr/



링크 : http://nanodev.korea.ac.kr/board/zero/view.php?id=QA&page=1&sn1=&divpage=1&sn=off&ss=on&sc=on&select_arrange=headnum&desc=asc&no=120